等离子光氧一体机

等离子光氧一体机基本信息

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使用光化学反响降解污染物的途径，包含无催化剂和有催化剂参与的光化学氧化进程。前者多采用氧和过氧化氢作为氧化剂，在紫外光的照射下使污染物氧化分化；后者又称光催化氧化，一般可分为均相和非均相催化两种类型。均相光催化降解中较常见的是以Fe2+或Fe3+及H2O2为介质，经过photo-Fenton反响发作·HO使污染物得到降解，非均相光催化降解中较常见的是在污染系统中投加一定量的光敏半导体资料，同时结合一定量的光辐射，使光敏半导体在光的照射下激起发作电子-空穴对，吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴效果，发作·HO等氧化性极强的自由基，再经过与污染物之间的羟基加和、替代、电子转移等式污染物悉数或接近悉数矿化。

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