纳米二氧化硅抛光粉
产品概述:
二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面效果好的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,
抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
技术指标:
型号 |
外观 |
粒径 nm |
含量 % |
产品特性及应用 |
HN-SP20F |
白色粉末 |
20 |
99.8 |
精细抛光,宝石抛光 |
HN-SP50F |
白色粉末 |
50 |
99.5 |
精细抛光,宝石抛光 |
HN-SP100 |
白色粉末 |
100 |
99.5 |
精细抛光,宝石抛光 |