杭州恒纳新材料有限公司

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杭州恒纳新材料有限公司 > 原料 > 宝石抛光精细抛光纳米氧化硅

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公司名:杭州恒纳新材料有限公司

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宝石抛光精细抛光纳米氧化硅详细信息说明
宝石抛光精细抛光纳米氧化硅基本信息

纳米二氧化硅抛光粉

产品概述:

  二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面效果好的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,

抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光

 

抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。

 

技术指标:

型号

外观

粒径

nm

含量

  %

产品特性及应用

HN-SP20F

白色粉末

20

99.8

精细抛光,宝石抛光

HN-SP50F

白色粉末

50

99.5

精细抛光,宝石抛光

HN-SP100

白色粉末

100

99.5

精细抛光,宝石抛光

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