纳米二氧化硅抛光液
产品概述:
二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面效果好的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,
抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
应用范围:纳米氧化硅分散液具有粒径小,溶度高,分散好等特点,用在抛光液中,以化学作用为主,添加螯合剂,活性剂,可以解决表面粗糙度,波纹度,表面缺陷等传统问题,可以做光学镜面抛光,宝石镜面抛光等精密抛光
技术指标:
型号 |
外观 |
粒径 nm |
含量 % |
溶剂 |
产品特性及应用 |
HN-SP10W |
半透明液体 |
10 |
20 |
水 |
精密抛光,宝石抛光 |
HN-SP30W |
白色乳液 |
30 |
30 |
水 |
精密抛光,宝石抛光 |
HN-SP50W |
白色乳液 |
50 |
30 |
水 |
精密抛光,宝石抛光 |
HN-SP100W |
白色乳液 |
100 |
30 |
水 |
精密抛光,宝石抛光 |