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杭州恒纳新材料有限公司 > 原料 > 晶片光学仪器蓝宝石抛光用

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晶片光学仪器蓝宝石抛光用详细信息说明
晶片光学仪器蓝宝石抛光用基本信息

纳米二氧化硅抛光液

产品概述:

  二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面效果好的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,

抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光

 

抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。

应用范围:纳米氧化硅分散液具有粒径小,溶度高,分散好等特点,用在抛光液中,以化学作用为主,添加螯合剂,活性剂,可以解决表面粗糙度,波纹度,表面缺陷等传统问题,可以做光学镜面抛光,宝石镜面抛光等精密抛光

技术指标:

型号

外观

粒径

nm

含量

  %

溶剂

产品特性及应用

HN-SP10W

半透明液体

10

20

精密抛光,宝石抛光

HN-SP30W

白色乳液

30

30

精密抛光,宝石抛光

HN-SP50W

白色乳液

50

30

精密抛光,宝石抛光

HN-SP100W

白色乳液

100

30

精密抛光,宝石抛光

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