作者：王玺堂,谭清华,罗晨泽,徐圣

作者单位：湖北省耐火材料与高温陶瓷重点实验室(武汉科技大学)

刊名：武汉科技大学学报(自然科学版)

ISSN：1674-3644

出版年：2005-06-30

卷：

期：2

起页：137

止页：140

分类号：TQ175.651

语种：中文

关键词：还原气氛,氮化硅,复相材料,烧结,Sialon

内容简介

以Si3N4,Al2O3,SiC及少量SiO2为原料,研究Al2O3-SiC-Si3N4复相材料在埋炭条件下的反应烧结过程,并借助SEM,EDX和XRD对其微观结构和物相变化进行了分析。研究结果表明,活性α-Al2O3和纳米SiO2能够促进Al2O3-SiC-Si3N4复相材料的烧结,体积密度提高,显气孔率降低,从而提高了强度。在复相材料的合成过程中,发现在高温下烧成的试样内有Sialon相和Si2N2O相生成。