商品描述【产品名称】1200℃气氛箱式炉【炉膛容积】245L【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1700℃真空炉(带安全阀)【炉膛容积】3L--45L【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃【应用领域】1700℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域;炉顶装有压力安全阀,当压力大于0.2Mpa时,安全阀自动弹开放气,保护设备和操作人员安全;安全阀经过计
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】96L高真空炉(带观察窗)【炉膛容积】96L【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述真空炉产品主要针对实验室的日常应用开发,优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统,可保证实验数据的可靠性;
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】真空热重实验炉【炉膛容积】36L【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃【应用领域】1700℃真空热重实验炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述真空热重实验炉产品主要针对实验室特殊材料的热性能分析所开发,优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统,可保证实验数据的可靠
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】467L高真空炉【炉膛容积】467L【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述真空炉产品主要针对实验室的日常应用开发,优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统,可保证实验数据的可靠性;产品采用
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】300L高真空炉【炉膛容积】300L【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述真空炉产品主要针对实验室的日常应用开发,优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统,可保证实验数据的可靠性;产品采用
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1200℃真空气氛箱式炉【炉膛容积】3L--45L【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述真空炉产品主要针对实验室的日常应用开发,优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统,可保证实验数据的可
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1200℃真空炉(扩散泵机组)【炉膛容积】30L【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1700℃真空炉【炉膛容积】3L--45L【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃【应用领域】1700℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,配罗茨泵真空机组,真空度5pa,可应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1400℃多温区管式炉【炉管尺寸】φ40--φ100mm【加热区】100mm+100mm+100mm+100mm+100mm【额定温度】1400℃【控温精度】±1℃【应用领域】1400℃多温区管式炉通过CE认证,最高温度1400℃,炉管采用刚玉管,五个温区采用独立的控制系统,通过温控调节可形成三个不同的梯度温场,炉盖开启式结构,PID30段程序控温
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1200℃三温区可立可卧管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm+300mm+300mm【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃三温区管式炉通过CE认证,最高温度1200℃,炉管采用石英管,三个温区采用独立的控制系统,通过温控调节可形成三个不同的梯度温场,炉盖开启式结构,PID30段程序控温,适用于精密陶瓷
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1200℃大管径管式炉【炉管尺寸】φ200mm【加热区】600mm【额定温度】1200℃【电源电压】AC220V/50Hz【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃真空气氛管式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述系列产品主要针对在真空或者保护气氛下
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1200℃大管径三温区管式炉【炉管尺寸】φ300mm【加热区】300mm+300mm+300mm【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃三温区管式炉通过CE认证,最高温度1200℃,炉管采用石英管,三个温区采用独立的控制系统,通过温控调节可形成三个不同的梯度温场,炉盖开启式结构,PID30段程序控温,适用于精密陶瓷等新材料的热处理。一
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1700℃三温区管式炉【炉管尺寸】φ40--φ100mm【加热区】200mm+200mm+200mm【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃【应用领域】1700℃三温区管式炉通过CE认证,最高温度1700℃,炉管采用刚玉管,三个温区采用独立的控制系统,通过温控调节可形成三个不同的梯度温场,炉盖开启式结构,PID30段程序控温,适用于精密陶瓷等新材料
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1400℃双温区管式电阻炉【炉管尺寸】φ40--φ100mm【加热区】300mm+300mm【额定温度】1400℃【控温精度】±1℃【应用领域】1400℃双温区管式炉通过CE认证,最高温度1400℃,炉管采用刚玉管,二个温区采用独立的控制系统,通过温控调节可形成二个不同的梯度温场,炉盖开启式结构,PID30段程序控温,适用于精密陶瓷等新材料的热处理
2024-04-01 电议/台商品描述【产品名称】1700℃真空气氛管式电阻炉【炉管尺寸】φ40--φ100mm【加热区】300mm【额定温度】1700℃【电源电压】AC220V/50Hz【控温精度】±1℃【应用领域】1700℃真空气氛管式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述系列产品主要
2024-04-01 电议/台商品描述【产品型号】STM-36-17【炉膛尺寸】300x400x300mm【额定温度】1700℃【电源电压】AC380V/50Hz【控温精度】±1℃【应用领域】1700℃马弗炉(箱式电阻炉)主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述STM系列产品主要针对实验室的日常应用开发,优质的炉膛材
2024-04-01 电议/台商品描述【产品型号】STM-36-14【炉膛尺寸】300x400x300mm【额定温度】1400℃【电源电压】AC380V/50Hz【控温精度】±1℃【应用领域】1400℃马弗炉(箱式电阻炉)主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述STM系列产品主要针对实验室的日常应用开发,优质的炉膛材
2024-04-01 电议/台商品描述【产品型号】STM-30-12【炉膛尺寸】300x500x200mm【额定温度】1200℃【电源电压】AC380V/50Hz【控温精度】±1℃【应用领域】1200℃马弗炉(箱式电阻炉)主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。一、产品描述STM系列产品主要针对实验室的日常应用开发,优质的炉膛材
2024-04-01 电议/台商品描述【产品型号】STM-1-10【炉膛尺寸】100x100x100mm【额定温度】1000℃【电源电压】AC220V/50Hz【控温精度】±1℃【应用领域】1000℃马弗炉(箱式电阻炉)主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境,应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域,此款马弗炉体积非常小巧,可放在手套箱内工作,或者用于车载户外使用。一、
2024-04-01 电议/台关于我们注册登录耐材通版权声明黄金广告排名三甲服务条款隐私政策网站地图联系我们诚聘英才
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