作者：周炜,马俊,高小琦,刘欢,单帜航,冯万春,张波萍

作者单位：北京科技大学材料科学与工程学院,葫芦岛市华能工业陶瓷有限公司,北京奥利通联科技有限公司

刊名：硅酸盐学报

ISSN：0454-5648

出版年：2022-07-01

卷：50

期：8

起页：2104-2109

止页：

分类号：TQ174.1

语种：中文

关键词：氮化硅;碳化硅;高温氧化;抗折强度;

内容简介

以SiC、硅粉、SiO2等为原料，通过反应烧结制备Si3N4–SiC陶瓷样品，并进行高温氧化，研究了高温氧化前后的结构与力学性能。结果表明：高温氧化前后样品中均存在SiC、α-Si3N4/β-Si3N4主晶相和少量单质Si、Si2N2O、方石英三斜SiO2，高温氧化后单质Si相消失，方石英四方SiO2出现。高温氧化前后β-Si3N4质量分数维持不变，而α-Si3N4质量分数由11.3%下降至6.8%，并伴随Si2N2O和SiO2质量分数的提升，表明α-Si3N4较β-Si3N4更容易氧化分解为Si2N2O和SiO2。高温氧化导致平均抗折强度由（68.55±6.36） MPa下降至（49.80±4.96） MPa，主要与氧化导致α-Si3N4质量分数下降有关。