单晶熔制坩埚
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搅拌器
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冷却器
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氧化锡电极
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下料碗
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钼电极
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S-515超小粒径硅溶胶制作工艺：离子交换法生产 产品参数 型号S-515 氧化钠(Naz0) %≤0.5 二氧化硅( SiO2) %14-16 比重(20°℃, g/cm)1...
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SW-30硅溶胶制作工艺：离子交换法生产 产品参数 型号SW-30 二氧化硅( SiO2) %26-28 比重(20°℃, g/cm)1.170-1.184 PH值(20℃)2.0-4.0 ...
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SDW-3030硅溶胶制作工艺：离子交换法生产 产品参数 型号SDW-3030 二氧化硅( SiO2) %27-29 比重(20°℃, g/cm)1.177-1.193 PH值(20℃)2.0...
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SKP27-3硅溶胶制作工艺：离子交换法生产 产品参数 型号SKP27-3 氧化钠(Naz0) %≤0.6 二氧化硅( SiO2) %27-29 比重(20°℃, g/cm)1.177...
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SKP-M2硅溶胶制作工艺：离子交换法生产 产品参数 型号SKP-M2 氧化钠(Naz0) %≤0.6 二氧化硅( SiO2) %26-29 比重(20°℃, g/cm)1.170-1...
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SKP-K1硅溶胶制作工艺：离子交换法生产 产品参数 型号SKP-K1 氧化钠(Naz0) %≤0.6 二氧化硅( SiO2) %26-29 比重(20°℃, g/cm)1.170-1...
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S-40高浓度硅溶胶硅溶胶制作工艺：离子交换法生产 产品参数 型号S-40 氧化钠(Naz0) %≤0.5 二氧化硅( SiO2) %39-41 平均粒径(nm)10.0-16....
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SD-5030硅溶胶制作工艺：离子交换法生产 产品参数 型号SD-5030 氧化钠(Naz0) %≤0.5 二氧化硅( SiO2) %29-31 比重(20°℃, g/cm)1.19-...
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SKP27硅溶胶制作工艺：离子交换法生产 产品参数 型号SKP27 氧化钠(Naz0) %≤0.6 比重(20°℃, g/cm)1.170-1.184 二氧化硅( SiO2) %26-...
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