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氧化锆—碳化硅复合材料室温电阻率与显微结构的关系

作者:许小红,宋波,毛裕文

作者单位:山西师范大学化学系!临汾,041001,北京科技大学理化系,北京科技大学理化系

刊名:耐火材料

ISSN:ISSN1001-1935

出版年:1997-01-01

卷:

期:05

起页:260

止页:262

分类号:

语种:中文

关键词:氧化锆;;碳化硅;;显微结构;;电阻率

内容简介

热压烧结的氧化锆-碳化硅复合材料不仅大大提高了材料的致密度,而且能使SiC在以ZrO2为主晶相的复合材料中呈网络分布,从而使SiC有较好的联通性,降低了复合材料的室温电阻率。而在常压烧结条件下,材料致密度低,SiC的联通性也较差。

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