作者:冯培忠; 王晓虹; 杜学丽; 曲选辉
作者单位:北京科技大学材料科学与工程学院新金属材料国家重点实验室; 中国矿业大学材料科学与工程学院; 北京1
刊名:
ISSN:1001-1935
出版年:2006-01-01
卷:
期:02
起页:120
止页:122
分类号:
语种:中文
关键词:二硅化钼; 发热元件; 组织结构
内容简介采用XRD、SEM和EDS等分析了KanthalMoSi2发热元件的微观组织结构和性能。结果表明:其主要组成为MoSi2、铝硅酸盐玻璃相和Mo5Si3;断裂以沿晶断裂为主,并具有一定的解理特征;基体晶粒大小约为9μm,在基体晶粒之间分布着大小不等、呈岛状的黑色物相。MoSi2发热元件表面有一层20μm厚,以SiO2为主,包含少量Al、Ca、Mg、Fe、Na和K的氧化物的玻璃保护膜,保护膜比较均匀平整,和基体之间界面清晰,二者结合紧密,因此具有比较高的物理和力学性能。
所需耐材币:0.00