作者：刘恩东,陈善华,罗青松

作者单位：成都理工大学材料与化学化工学院

刊名：人工晶体学报

ISSN：1000-985X

出版年：2018-11-15

卷：47

期：11

起页：2311-2315+2321

止页：

分类号：TQ174.1

语种：中文

关键词：硼酸镁晶须;原位合成法;烧结助剂;抗压强度;

内容简介

本研究以硼酸和碱式碳酸镁为原料,采用原位合成法制备了硼酸镁晶须,通过热分析（TG）、X射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）对样品进行表征,考察不同烧结助剂对硼酸镁晶须晶体结构、表面形貌、孔隙率及抗压强度的影响。实验结果表明,当未添加烧结助剂时,孔隙率为62. 57%,抗压强度为10. 32 MPa,晶须直径为0. 2~0. 6μm,长度为3~5μm。添加烧结助剂会降低硼酸镁晶须的孔隙率并提高其抗压强度。当烧结助剂为Mg F2时,孔隙率为51. 77%,抗压强度为14. 51 MPa;当烧结助剂为Na4P2O7时,孔隙率为43. 79%,抗压强度为21. 09 MPa。