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Si_3N_4-Al_2O_3系陶瓷材料表面氧化层的XPS分析

作者:张其土

作者单位:南京化工大学材料系!南京,210009

刊名:耐火材料

ISSN:ISSN1001-1935

出版年:1998-01-01

卷:

期:05

起页:306

止页:306

分类号:

语种:中文

关键词:

内容简介

Si2N4陶瓷材料具有高强度、耐磨、耐高温、耐热冲击和有自润滑性等特点,因此可作为高温结构材料。然而,Si3N4陶瓷材料在高温下使用时往往存在着氧化问题,这直接影响了Si3N4陶瓷材料的使用寿命和各种性能。对其氧化层中的方石英相大多是用X射线衍射分析(XRD)的方法来测定的。为了更好的研究Si3N4陶瓷材料表面氧化层的组成,在采用X射线衍射分析方法的同时,还采用XPS分析方法对表面氧化层中Si的存在状态进行了分析。首先对在空气中1300℃下氧化了100h的Si3N4陶瓷材料表面的氧化层进行了XPS分析,结果表明在表面氧化层中存在的主要元素有硅和氧,其…

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