作者：刘锡俊,王杰曾

作者单位：中国建筑材料科学研究院!北京,100024,中国建筑材料科学研究院!北京,100024

刊名：耐火材料

ISSN：ISSN1001-1935

出版年：1998-01-01

卷：

期：06

起页：309

止页：312

分类号：

语种：中文

关键词：氮化硅;;碳化硅;;棚板;;显微结构;;氧化

内容简介

通过X射线衍射、扫描电镜、压汞议、立体显微镜等检测手段，对Si3N4(Si2ON2)结合SiC质棚板的显微结构进行了剖析，揭示了显微结构对SiC质棚板宏观性能的影响。认为结合相的抗氧化性及氧化“釉层”的稳定性是决定棚权使用寿命的关键；气孔结构及分布是影响Si3N4(Si2ON2)结合棚极热震稳定性的重要因素。